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        管式等離子體氧化鋁淀積爐

        設備名稱 Equipment Name

        管式等離子體氧化鋁淀積爐  Horizontal PECVD (AlOx ) 

        設備型號 Equipment Model

        PD-520

        設備用途 Equipment Application

        本設備主要用于在硅片背面通過N2O和TMA淀積氧化鋁鈍化介質膜,提高電壓和電流,然后在氧化鋁膜表面淀積氮化硅保護膜。

        Deposit AlOx passivition dielectric film on the rear side of wafers using N2O and TMA gas to increase voltage and current of the solar cell and then deposit SixNy protective film on the surface of the AlOx film.


        工藝流程 Process Flow

        石墨舟及硅片準備管內充氮氣進舟抽真空、壓力測試淀積氧化鋁復合膜抽真空、壓力測試清管路、充氮氣退舟

        graphite boat & wafers ready→Nitrogen inlet→graphite boat load in→vacuumize, pressure test→deposit AlOx film→vacuumize, pressure test→tube cleaning and Nitrogen inlet→graphite boat unload 


        技術特點  Features

        1、氧化鋁、氮氧化硅、氮化硅復合膜PERC技術。
        AlOx, SiOxNy and SiNx complex layers.  

        2、兼容氮化硅、氮氧化硅PERC技術。
        Compatible with SiNx and SiOxNy PERC process. 

        3、雙水冷密封技術。
        Double water-cooled sealing technology .

        4、專利內加熱技術。
        Patented internal heating technology.

        5、高速平穩整體模組推舟機構。
        High-speed integral module boat pushing mechanism.

        6、懸浮承載舟技術。
        Graphite boat contact-free with quartz tube.

        7、自主知識產權MES軟件。
        MES software with independent intellectual property right.

        8、自主開發中央計算機集中控制系統。
        Independently developed CCC system.

        9、快速鍍膜技術。
        Fast coating technology.

        10、全面的防超溫、斷偶、撞舟等安全報警保護功能。
        Alarm protection for over-heating, thermocouple -break and boat collision.


        設備參數  Parameters


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